第697章 直奔浸潤式光刻
作者:三分糊塗      更新:2021-08-28 08:42      字數:2129
  國外同行們是什麽表情,蘇遠山現在看不到,但他能猜到。

  長期以來,國內都是被“封鎖”的目標和對象。遠的八筒不說了,近的WA還有無數條款列著呢……西方那邊,是出現一門新技術,就加一條。然後國內跟上一門,就減一條。生怕欺負你欺負得不夠完美。

  現在,猛地出現了反過來封鎖的技術……也不知道要驚掉多少人的下巴。

  辦公室裏眾人都是和八筒以及WA做過“鬥智鬥勇”的人,自然知道被封鎖的滋味是什麽,在一陣笑聲中,鄭振川望向蘇遠山:“小山,你說的有條件一年禁售期是什麽意思?”

  “就是,我們不談禁售,全麵開放,按照訂單來。但實際上,國外訂單要排到一年之後。”

  “國外訂單,也包括棒國那邊SYD的訂單?”鄭振川笑吟吟地問道。

  “……當然不是!”蘇遠山給嚇了一跳:“鄭叔別嚇我,SYD那邊是我們搶占DRAM顆粒的關鍵點。就指望著在這兩年把產能拉上去,兩年後來個大爆發呢……”

  眾人便哈哈大笑起來。

  鄭振川摸著頭發,一邊笑一邊搖頭:“其實不用你說一年,我們目前的產能大概也隻能滿足德遠和華晶的需求,要到一年之後才能接海外訂單。”

  “而且這期間,還需要你們和華晶多多協助,多多支持。”

  “嗯,沒事。隻要稼動率能夠上去,今後就算等,我們也要等到你們拿出Arf來!”

  稼動率,是工業製造中的一個名詞,可以簡單理解為某個設備在所能提供的時間內為了創造價值而占用的時間所占的比重。

  尼康佳能的光刻機,目前雖然在光源以及解決方案上跑得很快,已經完成了ArF光刻機,也就是DUV光刻機的研製。但買他們兩家的光刻機,真的有時候要看運氣。

  光刻機不是流水線產品,想做到每一台的效率和穩定性都達到最高,顯然是不可能的。但問題就在於,尼康的光刻機,同型號的差異實在太大了。

  最優秀的光刻機,稼動率能夠到90%,但最差的,或許就隻有50,60%。

  目前,獲得了來自飛利浦和intel大力支援的ASML,雖然還是在製造Krf光刻機,但他們光刻機的穩定性就大大超過了尼康佳能,一條生產線的稼動率甚至可以長期穩定在90%以上。

  至於鴻芯這邊,根據統計,稼動率是在70%到80%左右浮動,和尼康佳能差不多。

  “隻有慢慢來,我們現在隻有盡量優化流程,提高零部件標準,然後再細細打磨。”蘇遠山這邊提到稼動率,鄭振川也一陣煩惱。雙工件台是好,但如果無法通過長時間的流水線生產的驗證,那也僅僅隻是彌補缺陷罷了。

  “嗯,沒事。”蘇遠山點點頭:“工藝打磨可以慢慢來。我們本身就落後幾十年,現在是強行追上來的,有缺陷和不穩定很正常,慢慢吸取教訓,慢慢進步就是了。但研發不能慢下來。”

  “我希望你們直接就與林,趙團隊合作,直接跳過單純的Arf光刻機……或者說,直接協同研發跨越193nm的光刻機!”

  他話音落下,這邊曲慧和沈浩然馬上便是一驚!

  “小山,你的意思是林博士他們解決了下一代光源了?”曲慧由於長年累月呆在鴻芯這邊,早已經對光刻機技術和發展了如指掌,知道目前國內雖然由趙凱東那邊實現了Arf光源的突破,但Arf在國外可是好幾年前就已經突破了……而且人家早就意識到了193nm的Arf激光將會是光刻機發展的一個重要節點——這也是國產光刻機追上世界的重要機會。

  但人家意識得造,就意味著布局得早。尼康早就拉了一幫人在搞157nm的F2準分子光源不說,老美那邊更是牛逼,國家能源局親自下場,組建了一支豪華的陣容直接瞄準了最低可到10nm波長的極紫外光源EUV。

  而國內,則壓根沒有那個精力去搞。

  現在蘇遠山說的不是直接搞光源,而是直接搞光刻機……

  好家夥,意思就是那邊的團隊搞定了光源?

  當然,鄭振川不向曲慧他們這樣一驚一乍的,作為鴻芯的負責人,他自然知道林本堅他們的方案,並且自己這邊也給出了合作計劃。

  但蘇遠山現在說到直接就進行光刻機的研究……

  這……是不是走得太快了一點?

  所以,鄭振川也疑惑地望向蘇遠山。

  麵對眾人疑惑的眼神,蘇遠山輕輕地吸了口氣。

  之所以讓鄭振川直接就上馬浸潤式光刻機,自然還是因為他對林本堅有著絕對的信心。

  林本堅是工程師,而且還是那種按部就班的、極為老牌和嚴謹的工程師。他既然能提出浸潤式方案,那腦海中就必定有一個大體的解決方案。

  而蘇遠山上次從HK回來時就路過了滬市,專門去看了林本堅羅列出的一個個要解決的技術問題和難點。按照蘇遠山對工程和光學的淺薄認識來看,這些技術,都不是超越現代工程的技術。

  那麽這就意味著,浸潤式方案,也會如同前世一樣,或許兩年就能搞出來——把時間再算拋一點,那也就是三年!

  三年!

  如果鄭振川和林本堅的團隊一同協助,一開始就直奔浸潤式DUV,那麽或許最多三到五年……鴻芯就能推出世界上第一台浸潤式DUV光刻機。

  想到2003年,自己就能拿到可以賣20年都不會落伍的DUV,蘇遠山就感覺到有點燥熱起來。

  那該是多麽偉大的一次超越啊……

  “不,林,趙團隊沒有解決光源,但他們有解決鏡頭的方案。可以實現超越193nm的效果。”蘇遠山看著曲慧和沈浩然,解釋道:“如果鄭叔這邊和那邊直接配合啟動該方案的光刻機的研發,那麽……或許鴻芯就可能是第一家率先打破193nm的光刻機企業。”

  “到時候,別說ASML之流,就算尼康佳能,他們也隻能跪地求饒。”